在使用一个机械的时候如果能了解它的工作原理那么在工作的时候一定能做到事半功倍的效果。所以还是请在使用防爆抛光机之前大概的了解一下防爆抛光机工作原理也许会对你有所帮助,会让你在使用的时候有一种豁然开朗的感觉。
防爆抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终察看到的组织,即不会形成假组织。前者请求运用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者请求运用最细的资料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。
处理这个矛盾的最好的方法就是把抛光分为两个阶段停止。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有最大的抛光速率,粗抛构成的表层损伤是次要的思索,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应绝对平行并平均地轻压在抛光盘上,留意避免试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回挪动,以防止抛光织物部分磨损太快在抛光过程中要不时添加微粉悬浮液,使抛光织物坚持一定湿度。湿度太大会削弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时,由于摩擦生热会使试样升温,光滑作用减小,磨面失去光泽,以至呈现黑斑,轻合金则会抛伤外表。为了到达粗抛的目的,请求转盘转速较低,最好不要超越600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,由于还要去掉变形层。粗抛后磨面润滑,但黯淡无光,在显微镜下察看有平均细致的磨痕,有待精抛消弭。
精抛时转盘速度可恰当进步,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面亮堂如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。防爆抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织构造,已逐渐引起有关专家的注重。国内外在抛光机的性能上作了大量的研讨工作,研讨出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作开展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。